EVG IQ Aligner NT光刻系统
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单面/双面光刻系统
单面/双面光刻
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产品简介：
EVG IQ Aligner NT是IQ Aligner光刻工艺平台的升级款，在对准精度、处理速度上都有较大提升，适用于大型生产线。
主要特点及参数：
·最大支持12英寸（300mm）晶圆
·支持易碎、薄片及翘曲晶圆的处理。
·全自动顶部及底部对准：
顶部对准精度≤±0.25μm
底部对准精度≤±0.5μm
·支持Casettes, SMIF或FOUP上料
·可选配功能：
红外对准（透射或反射）
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