EVG 101涂胶/喷胶/匀胶系统
所属分类：
测试与辅助工艺设备
涂胶显影
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产品简介：
EVG 101是一款适合于研发的单腔晶圆涂胶显影设备，可用于喷胶、旋涂和显影，可在三维结构晶圆上完成光刻胶或聚合物的涂覆，并保持高均匀性。
主要特点及参数：
·最大可适用于12寸（300mm）晶圆
·手动装片，自动喷涂/旋涂，自动清洗腔室内残胶
·适用光刻胶范围广泛，粘度可达52000cp
·基片最大转速：10000r/min
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