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单面/双面光刻系统
晶圆键合系统
纳米压印光刻系统
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产品简介:
EVG 810LT是一款手动单晶圆低温等离子活化设备,采用等离子技术处理晶圆表面,降低键合温度要求,提高键合质量。适合于SOI、MEMS、化合物半导体、和先进基板键合。
主要特点及参数:
·最大可适用于12寸(300mm)晶圆
·无需湿法处理
·高度材料兼容性