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单面/双面光刻系统
晶圆键合系统
纳米压印光刻系统
测试与辅助工艺设备
所属分类:
纳米压印光刻
产品附件:
产品简介:
EVG HerculesNIL是一款集成了晶圆清洗、涂胶、烘烤、冷却等工艺的全自动大型紫外纳米压印工艺平台,应用于AR/VR中的光学设备、3D传感器、生物医疗设备、纳米光学和等离子学研究。
主要特点及参数:
·最大支持12英寸(300mm)晶圆
·支持包括3D在内的各种结构尺寸形状
·可做200mm和300mm晶圆的桥接
·最高分辨率可达40nm(取决于模版和工艺条件)