EVG 520 HE热压印系统
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纳米压印光刻系统
纳米压印光刻
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产品简介：
EVG 520 HE是一款基于EVG520设备的半自动热压印设备，适用于所有聚合物，可应用于高质量的纳米图形转移。相比EVG 510 HE可提供更大的压力。
主要特点及参数：
·最大支持8英寸（200mm）晶圆
·自动压印并具有气动脱模功能
·最大压力：100KN
·最大温度：350℃（可选配至550℃）
·最大真空度：0.1mbar（可选配至10-5mbar）
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