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EVG

EVG 610光刻机
产品描述
参数

产品简介:

EVG 610是一款入门级光刻机,支持接近式、软接触、硬接触、真空接触4种曝光方式,可选配背面对准模块。也可用于键合对准及纳米压印光刻(NIL),是科研开发用户的理想选择。

 

主要特点及参数:

·最大支持8英寸(200mm)晶圆

·顶部及底部对准:

顶部对准精度≤±0.5μm

底部对准精度≤±2μm

红外对准精度≤±2μm(取决于衬底材料)

键合对准精度≤±2μm

纳米压印对准精度≤±2μm

·支持汞灯或最新的UV-LED光源

·自动楔形补偿程序

·可选配功能:

键合对准

红外对准

纳米压印光刻(NIL)

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发布时间:2019-08-21 00:00:00

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