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EVG

EVG 6200NT光刻机
产品描述
参数

产品简介:

EVG 6200NT是620NT的增强型,提供先进的掩膜对准技术。可选择半自动或全自动配置,满足大批量生产和Fab标准。

 

主要特点及参数:

·最大支持8英寸(200mm)晶圆

·支持易碎、薄片及翘曲晶圆的处理,可快速转换多尺寸晶圆

·全自动顶部及底部对准:

顶部对准精度≤±0.5μm

底部对准精度≤±1μm

红外对准精度≤±2μm(取决于衬底材料)

·支持汞灯或UV-LED光源

·支持半自动原位升级为全自动

·可选配功能:

键合对准

红外对准

纳米压印光刻(NIL)

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发布时间:2019-08-21 00:00:00

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