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单面/双面光刻系统
晶圆键合系统
纳米压印光刻系统
测试与辅助工艺设备
所属分类:
单面/双面光刻
产品附件:
产品简介:
EVG Hercules是一款集成了晶圆清洗、涂胶、烘烤、光刻等工艺的全自动大型工艺平台,具有功能多、产量高的特点。
主要特点及参数:
·最大支持12英寸(300mm)晶圆
·支持易碎、薄片及翘曲晶圆的处理
·支持Casettes-to-Casettes全自动运行
·最大可扩展8个湿法模块或24个烘烤、冷却、真空模块