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ALD原子层沉积体统
产品描述
参数
产品简介：
多种能的原子层沉积平台是用于研发的理想选择，适用于IC器件、MEMS器件、显示器、led、激光、3D物体如镜片、光学、珠宝、硬币、医疗植入物等数十种应用的研发。
主要技术参数：
·适用2-8inch的单片晶圆；
·工艺温度：50-500℃，可选配等离子处理系统，工艺温度450℃（可选配特定chuck盘至650℃）；
·适用镀膜种类：Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN，Pt，Ir等；
·手动上料，可选配机械臂，搬运机器人或Cassette-to-Cassette上料；
·前驱体种类：液体，固体，气体，等离子体，臭氧体等；
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发布时间：2019-08-21 00:00:00
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