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ALD原子层沉积体统
产品描述
参数

产品简介:

多种能的原子层沉积平台是用于研发的理想选择,适用于IC器件、MEMS器件、显示器、led、激光、3D物体如镜片、光学、珠宝、硬币、医疗植入物等数十种应用的研发
 

主要技术参数:

·适用2-8inch的单片晶圆;
·工艺温度:50-500℃,可选配等离子处理系统,工艺温度450℃(可选配特定chuck盘至650℃)
·适用镀膜种类:Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN,Pt,Ir等
·手动上料,可选配机械臂,搬运机器人或Cassette-to-Cassette上料
·前驱体种类:液体,固体,气体,等离子体,臭氧体等;
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发布时间:2019-08-21 00:00:00

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